目前X 射線測量技術主要采用電離室作為射線檢測部件，其檢測原理是通過射線進入電離室產(chǎn)生氣體電離，通過對電離后的離子對加壓，產(chǎn)生弱電流信號（10^-9～10^-11A），然后將弱電流信號轉(zhuǎn)換成電壓信號，并進行數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)換和處理。由于X 射線是連續(xù)譜，要求測量X 射線的電離室對整個能譜范圍內(nèi)的X 射線進行有效的檢測，應用在傳統(tǒng)放射性同位素測量設備上的電離室只需要對特定能量的射線進行有效檢測。隨著現(xiàn)代生產(chǎn)工藝對產(chǎn)品檢測和控制精度要求的提高，要求電離室的尺寸減小，而檢測效率提高，對電離室的制造工藝提出了更高的要求。